FCBiR – Pracownia wzrostu warstw – ML SYSTEM SA
Strona główna > FCBiR – Pracownia wzrostu warstw


Rotacyjny DIP Coater Nadetech ND-R 11/2

 

Dip Coater to zautomatyzowane urządzenie, które pozwala na osadzanie wielu cienkich warstw poprzez zanurzanie. Jego konstrukcja i oprogramowanie pozwalają kontrolować i automatyzować każdy parametr osadzania z wysoką precyzją i odtwarzalnością. ND-R Dip Coater jest stosowany do otrzymywania powłok nanometrycznych wielowarstwowych techniką zol-żel, warstwa po warstwie (layer by layer) i innymi technikami powlekania zanurzeniowego. Posiada osiem pozycji zanurzania, co pozwala na pracę z wieloma naczyniami, związkami, temperaturami i sekwencjami zanurzania.

 


Spektrometr FTIR Nicolet iS50 Thermo Scientific

Urządzenie przeznaczone do analiz spektralnych różnych substancji w zakresie podczerwieni.

Pozwala na wykonanie pomiarów:

  • Widm w zakresie 7 800 – 350 cm-1
  • Pomiarów transmisyjnych próbek o różnych kształtach i grubości do 3,5 cm
  • Analizę ilościową i klasyfikacyjną.

 

Parametry urządzenia:

  • Zdolność rozdzielcza 0.09-1 cm-1
  • System automatycznego rozpoznawania z poziomu oprogramowania akcesoriów (ATR – Golden Gate, Miracle, SplitPea, DRITFS, Specular Reflectance, PAS) oraz elementów systemu takich jak detektory i beamsplittery.
  • Skanowanie liniowe z szybkością regulowaną w zakresie 0.16 - 6.2 cm/s
  • Poziom szumów (amplituda międzyszczytowa) nie przekracza 7.9 x 10-6 Abs (sygnał/szum ³ 55 000:1) dla detektora DLaTGS, rozdzielczości 4 cm-1 przy pomiarze 1 min
  • Duża szybkość zbierania danych 65 skanów/s dla rozdzielczości 16 cm-1 (odstęp danych 8 cm-1 )
  • Możliwość rozbudowy na dalsze zakresy spektralne (zakres maksymalny 27 000 - 15 cm-1 ) i do pracy z technikami łączonymi: GC/IR, TG/IR, FT-Raman.
  • Dodatkowo wyposażony w mikroskop

 


System do depozycji cienkich warstw PVD z komorą rękawicową

Urządzenie to pozwala na depozycję cienkich warstw PVD o korzystnej, równomiernej strukturze.

Rodzaj wytwarzanych próbek: nanoszenie cienkich warstw na podłoża szklane, krzemowe, metaliczne z precyzją +/-100 nm (w zależności od materiału).

Parametry urządzenia:

system składa się z:

  • komory procesowej do depozycji o wymiarach wewnętrznych 355 mm x 432 mm x 584 mm, w skład której wchodzi:
    · Napylarka termiczna
    · Magnetron (1x DC, 1x RF)
    · System kontroli grubości warstwy
    · System manipulacji i przytwierdzania podłoża
    · Automatyczny system kontroli ciśnienia
    · Pompy próżniowe + zawory

 

 

 

 

  • zestawu komór rękawicowych przy komorze procesowej:
    trójportowa 1500 mm x 300 mm x 900 mm, połączona śluzą z komorą rękawicową czteroportową 2400 mm x 750mm x 900mm
    - Dodatkowo mała śluza o wymiarach 150 mm x 300 mm
    - Komory wyposażone w Spin Coater, Hot Plate o wymiarach 300 x 250 x 120 mm (wymiary płyty 164 x 164), temp. 25 - 250°C z dokładnością +/-1°C
    - Turbopompa o wydajności 685 l/s oraz pompa do próżni wstępnej typu scroll o wydajności 10 m3/h
    - Możliwość wykorzystania silnego magnesu (montaż na katodzie) podczas depozycji materiałów magnetycznych
    - Pneumatycznie sterowane separatory skutecznie eliminujące zanieczyszczenia krzyżowe pomiędzy sąsiednimi źródłami rozpylania
    - Możliwość zmiany nachylenia kąta napylania
    - System zaprojektowany i zbudowany z zapewnieniem najwyższej jakość i zgodności
    z zasadami ISO 9001/2008.